Выращивание материалов методом CVD
Метод химического осаждения из газовой фазы применяется для выращивания высокочистых материалов. Процесс происходит в вакууме при высокой температуре и относительно низком давлении.
Частным случаем использования технологии CVD является синтез углеродных структур, а именно поли и монокристаллов алмаза.CVD-процесс основан на разложении, с помощью СВЧ-плазмы, углеводородов (как правило – метана) в смеси с водородом и последующем осаждении алмаза на нагретую подложку. Рабочая смесь диссоциирует в вакуумной камере под действием СВЧ-плазмы. Продукты разложения (углеводородные радикалы и атомарный водород) диффундируют к подложке, нагретой до температуры 700–1000°С, на которую и осаждается алмаз (рис.3). Рост алмаза не является эпитаксиальным, зарождение кристаллов происходит на заранее привнесенных на подложку центрах нуклеации, обычно пластинах алмаза. Типичное значение давления газа в камере составляет 30–100 Торр, а скорости осаждения – 1-20 мкм/ч.
В результате возможно получать высокочистый монокристаллический алмаз идентичный по химическому составу, физическим и оптическим свойствам природному алмазу. При этом выращиваемые алмазы относятся к типу IIa, в них практически отсутствует азот и др. примеси, кроме того, лабораторный процесс даёт возможность легирования алмаза различными элементами для модификации некоторых его свойств, например, электропроводимости. Всё это делает синтезированный алмаз незаменимым во многих отраслях:
Область применения | Сфера приложения |
---|---|
1. Электроника |
|
2. Оптические приборы |
|
3. Механическая обработка |
|
4. Бурение, дробление, распиловка |
|
5. Ювелирное дело |
|
Мы сотрудничаем с российскими и европейскими лабораториями, которые специализируются на выращивании алмазов методом CVD. Мы занимаем прикладными исследованиями в области применения синтезированных алмазов в указанных областях.
Мы имеем возможность поставлять элементы на основе CVDалмаза:
1. Монокристаллические пластины
Размер до 5*5 мм
Толщина: 0,5 - 1 мм
Ориентация: 100
Шероховатость: < 10нм
Содержание азота: < 50ppb
2. Поликристаллические пластины
Диаметр: до 70 мм
Толщина: 0,3 - 2 мм
Теплопроводность: > 1500 Вт/мК
Размеры кристаллитов: 30 - 40 мкм
Шероховатость: < 10нм
3. Окна
Размер до 4.5*4.5
Толщина: 0,5 - 1 мм
Шероховатость: < 10нм
Допуск на толщину: +/-0.05 мм
4. CVDБриллианты
Вес: до 1.5 карат
Тип:IIa
Вид: бесцветные, фантазийные.
Цвет D-G
Чистота IF-VS1
Огранка: любая по запросу